此前有消息稱由于先進工藝產(chǎn)能過剩，臺積電計劃今年底將部分EUV光刻機關(guān)機，以便節(jié)省電費支出，臺積電日前也回應(yīng)了，表示不評論市場傳聞。

臺積電稱，本公司針對機臺設(shè)備皆有年度規(guī)劃，并依循計劃，在不影響正常營運的前提下，進行例行維護與升級。

上周來自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機晶片達人的消息稱，由于先進制程產(chǎn)能利用率開始下滑，而且評估之后下滑時間會持續(xù)一段周期，臺積電計劃從年底開始，將部分EUV 設(shè)備關(guān)機，以節(jié)省EUV設(shè)備巨大的耗電支出。

據(jù)了解臺積電目前擁有大約80臺EUV光刻機，主要用于7nm、5nm及以下的先進工藝，今年9月份還會量產(chǎn)3nm工藝，都需要EUV光刻機，然而隨著PC、手機、顯卡等產(chǎn)品的需求下滑，先進工藝生產(chǎn)的芯片勢必會受到影響。

相比之前的DUV光刻機，EUV光刻機需要使用高能激光器，而且光線會多次折射導致?lián)p耗極大，早期效率只有0.02%，現(xiàn)在量產(chǎn)的說是可以達到2%效率，但也意味著絕大多數(shù)電力都要消耗掉。

EUV光刻機生產(chǎn)一天需要3萬度電左右，一年耗電大約1000萬度，是十足的電老虎。

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